Please use this identifier to cite or link to this item: https://hdl.handle.net/11147/7068
Title: Silika yüzeylerin ıslanma hareketlerinin moleküler dinamik ile modellenmesi
Other Titles: Modelling wetting behavior of silica surfaces by molecular dynamics
Authors: Barışık, Murat
Barışık, Murat
Izmir Institute of Technology. Mechanical Engineering
Keywords: Lotus effect
Molecular dynamics
Wetting angle
Silicon oxides
Issue Date: 2018
Publisher: Gazi Üniversitesi
Source: Barışık, M. (2018). Silika yüzeylerin ıslanma hareketlerinin moleküler dinamik ile modellenmesi. Journal of the Faculty of Engineering and Architecture of Gazi University, 33(1), 337-344. doi:10.17341/gazimmfd.406805
Abstract: Yeni üretim tekniklerine paralel olarak nano-boyutlu teknolojiler çok geniş bir uygulama alanında kullanılmaya başlanmakta ve yeni uygulamalar geliştirmek için keşfedilmesi ve anlaşılması gereken konular süratle artmaktadır. Bu doğrultuda, yeni uygulamalarda sıkça yer bulan silikon ve silikon-dioksitin mikro/nano boyutlardaki malzeme özelliklerinin anlaşılmasına büyük ihtiyaç oluşmaktadır. Özellikle bu yüzeylerin ıslanma hareketlerinin anlaşılabilmesi ve hatta kullanılacak uygulamaya göre ayarlanabilmesi sayısız uygulama için önem arz etmektedir. Bu nedenlerle, nano-teknolojide sıkça kullanılan silikon-dioksit malzemesinin ve su moleküllerinin nano-ölçeklerde moleküler olarak modellenmesi bu çalışmada gerçekleştirildi. Modelleme molekuler dinamik hesaplamaları ile yapıldı. Silikon-dioksit yüzey üzerinde nano su damlacıkları oluşturup, denge halinde oluşan ıslatma açısı ölçümleri yapıldı. Literatürde işlem yükünü azaltmak için sıklıkla uygulanan, katı yüzey termal titreşimlerinin ıslatmaya olan etkisinin ihmal edilmesi ve modellenmemesinin ıslatma açısına olan etkisi incelendi. Katı moleküllerin termal titreşimlerinin ıslatma modellenen ıslatma fiziğine baskın bir etkisi olduğu görüldü. Geçtiğimiz yıllarda doğa taklidi olarak bilinen çalışma çevreleri tarafından hayata geçirilmeye çalışılan Lotus yaprağı etkisi temelli yüzey ıslatma kontrolu moleküler seviyede uygulandı. Yüzey üzerinde oluşturulan nano boyutlardaki yüzey yapılarının ıslanma açısını değiştirebildiği gösterildi. Temiz (0 0 1) silika yüzeyinde nano ölçek çizgi gerilimi etkisi altında ölçülen ıslanma açısının deneysel silika ıslanma açısı aralığında olduğu bulundu.
URI: http://doi.org/10.17341/gazimmfd.406805
http://hdl.handle.net/11147/7068
ISSN: 1300-1884
1304-4915
Appears in Collections:Mechanical Engineering / Makina Mühendisliği
OpenAIRE Collection / OpenAIRE Koleksiyonu
Scopus İndeksli Yayınlar Koleksiyonu / Scopus Indexed Publications Collection
TR Dizin İndeksli Yayınlar / TR Dizin Indexed Publications Collection
WoS İndeksli Yayınlar Koleksiyonu / WoS Indexed Publications Collection

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
7068.pdfMakale (Article)682.45 kBAdobe PDFThumbnail
View/Open
Show full item record

CORE Recommender

Page view(s)

32
checked on Sep 25, 2021

Download(s)

30
checked on Sep 25, 2021

Google ScholarTM

Check

Altmetric


Items in GCRIS Repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.