Please use this identifier to cite or link to this item: https://hdl.handle.net/11147/13052
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorÇelebi, Cemtr
dc.contributor.authorFırat, Volkantr
dc.date.accessioned2023-02-05T13:27:04Z-
dc.date.available2023-02-05T13:27:04Z-
dc.date.issued2015-
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/11147/13052-
dc.description.abstractGerçekleştirilen projede, günümüzde önemi gittikçe artan, sadece silikon atomlarından oluşmuş tek atom kalınlığındaki silisen malzemesinin üretilmesi ve karakterizasyonlarının yapılması amaçlanmıştır. Molibden Disülfid (MoS2) ve Boron Nitrür (BN) gibi iki boyutlu malzeme ailesi içerisinde yer alan ve tıpkı karbon nanotüplerdeki gibi kristal oryantasyonuna bağlı olarak yarımetalik, iletkenlik veya yarıiletkenlik gibi birçok farklı elektiriksel özellik sergilemesi öngürülen silisen üzerine yapılan çalışmalar büyük ölçüde teorik hesaplamalar çerçevesinde kalmıştır. Ancak Ag, Ir gibi iletken tabanlarda büyütülebilen silisenin yalıtkan yüzeylere aktarılamaması, bu malzeme üzerine yapılması öngörülen ve silisenin kendisine has yapısal, elektronik ve optik özelliklerinin belirlenmesine yönelik deneysel çalışmalar çok büyük ölçüde sınırlı kalmaktadır. Bu nedenle silisenin dielektrik veya yalıtkan bir yüzeye aktarılması veya böyle bir yüzeyde büyütülebilmesi büyük önem kazanmaktadır. İletken tabanla elektronik etkileşimlerden dolayı, sadece silisenin kendisine ait karakteristik Raman spektroskopisi ölçümleri bulunmamaktadır. Proje kapsamında gerçekleştirilen deneylerde, ultra yüksek vakum (UHV) koşulları altında silisyum atomları bir SiC katı kaynağından buharlaştırılarak, bu silisyum atomlarının 6H-SiC kristali üzerinde büyütülen epitaksiyel grafen tabakaları ve 6H-SiC(0001) yüzeyi tabanına gönderilmiştir. Grafen ve altıgen kristal örgü yapılı SiC yüzeyinde silisen büyütme çalışmaları farklı hedef alttaş sıcaklıklarında sistematik olarak gerçekleştirilmiştir. SiC yüzeylerinde ve epitaksiyel grafen üzerinde silisen katmanı üzerinde Raman spektroskopisi ölçümleri yapılmıştır. SiC yüzeyindeki epitaksiyel grafen tabakası üzerinde büyütülen silisen katmanları mekanik ayrıştırma ile SiO2/Si yalıtkan alttaşlara aktarılmıştır. Elde edilen örneklerde silisen katman veya katmanlarının oluşup oluşmadığı SEM, EDX, STM, Optik Mikroskop ve Atomik Kuvvet Mikroskobu (AFM) yöntemleri kullanılarak incelenmiş ve bu ölçümlerden elde edilen verilerin analizleri yapılmıştır.tr
dc.language.isotren_US
dc.relationİki boyutlu elektronik uygulamalar için silisen üretimitr
dc.rightsinfo:eu-repo/semantics/openAccessen_US
dc.titleİki boyutlu elektronik uygulamalar için silisen üretimitr
dc.typeProjecten_US
dc.departmentİzmir Institute of Technology. Physicsen_US
dc.identifier.startpage1en_US
dc.identifier.endpage40en_US
dc.relation.publicationcategoryDiğertr
dc.relation.grantno113F382-
dc.identifier.trdizinid614332en_US
dc.identifier.wosqualityN/A-
dc.identifier.scopusqualityN/A-
item.fulltextWith Fulltext-
item.grantfulltextopen-
item.languageiso639-1tr-
item.openairecristypehttp://purl.org/coar/resource_type/c_18cf-
item.cerifentitytypePublications-
item.openairetypeProject-
crisitem.author.dept04.05. Department of Pyhsics-
Appears in Collections:Physics / Fizik
TR Dizin İndeksli Yayınlar / TR Dizin Indexed Publications Collection
Files in This Item:
File SizeFormat 
document.pdf2.88 MBAdobe PDFView/Open
Show simple item record



CORE Recommender

Page view(s)

254
checked on Nov 18, 2024

Download(s)

66
checked on Nov 18, 2024

Google ScholarTM

Check





Items in GCRIS Repository are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.